從SEM圖可以得到哪些信息

1、請問SEM照片里都能看出什麼有用信息

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2、從HPLC色譜圖中可以獲得哪些信息

各種色譜峰信息包括保留時間，峰高峰寬峰面積，有內標或者標准曲線時可計算樣品濃度，在不同檢測器下也會獲得其他信息，比如紫外吸收波長什麼的

3、從統計圖中你能獲取哪些信息？

由統計圖可知：該市2005年中小學生參觀科技展覽的人數最少，是3萬人，2010年中小學生參觀科技展覽的人數最多，是8萬人；中小學生參加科技展覽的人數逐年增加，人們對科技教育越來越重視．

4、從ansys分析結果的圖形中可以得到哪些信息，怎麼去看最後得到的圖形，本人新手，非常感謝

圖形只能告訴你最後構件的變形情況，以及大概的應力，應變分布，這有助於在短專時間內改進設屬計，而不必去分析大量的數據，
想要看最後的圖形，左邊的mainmenu裡面有啊，通用結果處理器裡面有直接的命令，針對不同的分析對象有不同的操作，一兩句話很難說清，你要不是很急的話還是好好看看這方面的教材吧

5、有示意圖，你可以得到哪些信息？

宏觀：氧化汞—加熱→汞+氧氣
微觀：由於加熱時氧化汞的分子發生排斥，使氧和汞分離。

6、從照片中可以得到鏡頭哪些信息

照片文件中含有EXIF信息，包括拍攝時間，鏡頭的變焦范圍和最大光圈范圍，拍攝時的光圈值、焦距等鏡頭信息。當然還有關鍵的曝光參數等信息。使用國產後期處理軟體光影魔術手就能查看EXIF信息。

7、SEM掃描電鏡圖怎麼看，圖上各參數都代表什麼意思

1、放大率：

與普通光學顯微鏡不同，在SEM中，是通過控制掃描區域的大小來控制放大率的。如果需要更高的放大率，只需要掃描更小的一塊面積就可以了。放大率由屏幕/照片面積除以掃描面積得到。

所以，SEM中，透鏡與放大率無關。

2、場深：

在SEM中，位於焦平面上下的一小層區域內的樣品點都可以得到良好的會焦而成象。這一小層的厚度稱為場深，通常為幾納米厚，所以，SEM可以用於納米級樣品的三維成像。

3、作用體積：

電子束不僅僅與樣品表層原子發生作用，它實際上與一定厚度范圍內的樣品原子發生作用，所以存在一個作用「體積」。

4、工作距離：

工作距離指從物鏡到樣品最高點的垂直距離。

如果增加工作距離，可以在其他條件不變的情況下獲得更大的場深。如果減少工作距離，則可以在其他條件不變的情況下獲得更高的解析度。通常使用的工作距離在5毫米到10毫米之間。

5、成象：

次級電子和背散射電子可以用於成象，但後者不如前者，所以通常使用次級電子。

6、表面分析：

歐革電子、特徵X射線、背散射電子的產生過程均與樣品原子性質有關，所以可以用於成分分析。但由於電子束只能穿透樣品表面很淺的一層（參見作用體積），所以只能用於表面分析。

表面分析以特徵X射線分析最常用，所用到的探測器有兩種：能譜分析儀與波譜分析儀。前者速度快但精度不高，後者非常精確，可以檢測到「痕跡元素」的存在但耗時太長。

觀察方法：

如果圖像是規則的（具螺旋對稱的活體高分子物質或結晶），則將電鏡像放在光衍射計上可容易地觀察圖像的平行周期性。

尤其用光過濾法，即只留衍射像上有周期性的衍射斑，將其他部分遮蔽使重新衍射，則會得到背景干擾少的鮮明圖像。

(7)從SEM圖可以得到哪些信息擴展資料：

SEM掃描電鏡圖的分析方法：

從干擾嚴重的電鏡照片中找出真實圖像的方法。在電鏡照片中，有時因為背景干擾嚴重，只用肉眼觀察不能判斷出目的物的圖像。

圖像與其衍射像之間存在著數學的傅立葉變換關系，所以將電鏡像用光度計掃描，使各點的濃淡數值化，將之進行傅立葉變換，便可求出衍射像〔衍射斑的強度（振幅的2乘）和其相位〕。

將其相位與從電子衍射或X射線衍射強度所得的振幅組合起來進行傅立葉變換，則會得到更鮮明的圖像。此法對屬於活體膜之一的紫膜等一些由二維結晶所成的材料特別適用。

掃描電鏡從原理上講就是利用聚焦得非常細的高能電子束在試樣上掃描，激發出各種物理信息。通過對這些信息的接受、放大和顯示成像，獲得測試試樣表面形貌的觀察。

8、SEM和EPMA實驗可以直接得到哪些信息?

SEM是
掃描電子顯微鏡
，主要用於電子顯微成像，接配電子顯微分析附件，可做相應的特徵分析，
最常用的是聚焦
電子束
和樣品相互作用區發射出的元素特徵
X-射線
，可用EDS或者WDS進行探測分析，獲得微區（作用區）元素成分信息，而EDS或者WDS這類電子顯微分析附件卻來源於EPMA。
SEM就是一個電子顯微分析平台，分析附件可根據用戶需要來選配，有需要這個的，有需要那個的，因此
掃描電鏡
結構種類具有多樣性，從tiny、small、little
style，to
middle、large、huge
style.

就EDS或WDS分析技術來講，在SEM上使用，基本上使用無
標樣
分析，獲得很粗糙的
半定量
結果。
而EPMA在SEM商品化10年前，就已經開始實用了，其主要目的，就是要精確獲得微米尺度晶粒或顆粒的成分信息.
主要分析手段是WDS，一般配置4個WDS，基於此，EPMA結構比較單一，各品牌型號結構差距不大。EMPA追求電子顯微分析結果精準，因此
電子光學
設計不追求高分辨，電子顯微分析對匯聚束的要求相匹配即可。
早期EPMA成像手段主要採用同軸
光學顯微鏡
，然後移動樣品台或移動匯聚電子束，找到感興趣區，當前依然保留同軸光鏡，用來校準WD。EMPA對電子光學系統工作條件的穩定性要求超過SEM很多很多，控制系統增加了一些
負反饋
機制，確保分析條件和標樣分析保持很小的誤差。