sem二次成像特點

1、顯微鏡成像有何特點？

顯微鏡的成像特點：

1. 顯微鏡的放大倍數：是指標本放大的長度或寬度，而不是指面積或體積。顯微鏡的放大倍數等於所用物鏡與目鏡放大倍數的乘積。目鏡的放大倍數越小鏡頭越長，物鏡的放大倍數越小鏡頭越短。

2. 顯微鏡視野觀察的特點：低倍鏡下細胞數目多，體積小，視野亮；高倍鏡下細胞數目少，體積大，視野暗。

3. 顯微鏡下實物與物象的關系：顯微鏡下所成的像是倒立的虛像，即上下、左右均是顛倒的。如細胞在顯微鏡下的像偏「右上方」，實際在玻片上是偏「左下方」，要將其移至視野中央，應將玻片向「右上方」移動。

原理：

光學顯微鏡主要由目鏡、物鏡、載物台和反光鏡組成。目鏡和物鏡都是凸透鏡，焦距不同。物鏡的凸透鏡焦距小於目鏡的凸透鏡的焦距。物鏡相當於投影儀的鏡頭，物體通過物鏡成倒立、放大的實像。

目鏡相當於普通的放大鏡，該實像又通過目鏡成正立、放大的虛像。經顯微鏡到人眼的物體都成倒立放大的虛像。反光鏡用來反射，照亮被觀察的物體。反光鏡一般有兩個反射面：一個是平面鏡，在光線較強時使用；一個是凹面鏡，在光線較弱時使用，可會聚光線。

電子顯微鏡是根據電子光學原理，用電子束和電子透鏡代替光束和光學透鏡，使物質的細微結構在非常高的放大倍數下成像的儀器。

電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點的最小間距來表示。20世紀70年代，透射式電子顯微鏡的解析度約為0.3納米(人眼的分辨本領約為0.1毫米)。

電子顯微鏡最大放大倍率超過300萬倍，而光學顯微鏡的最大放大倍率約為2000倍，所以通過電子顯微鏡就能直接觀察到某些重金屬的原子和晶體中排列整齊的原子點陣。

(1)sem二次成像特點擴展資料：

顯微鏡之所以能將被檢物體進行放大，是通過透鏡來實現的。單透鏡成象具有象差，嚴重影響成象質量。因此顯微鏡的主要光學部件都由透鏡組合而成。

從透鏡的性能可知，只有凸透鏡才能起放大作用，而凹透鏡不行。顯微鏡的物鏡與目鏡雖都由透鏡組合而成，但相當於一個凸透鏡。為便於了解顯微鏡的放大原理，簡要說明一下凸透鏡的5種成象規律：

（1） 當物體位於透鏡物方二倍焦距以外時，則在象方二倍焦距以內、焦點以外形成縮小的倒立實象；

（2） 當物體位於透鏡物方二倍焦距上時，則在象方二倍焦距上形成同樣大小的倒立實象；

（3） 當物體位於透鏡物方二倍焦距以內，焦點以外時，則在象方二倍焦距以外形成放大的倒立實象； 

（4） 當物體位於透鏡物方焦點上時，則象方不能成象；

熒光顯微鏡原理：

(A) 光源：光源輻射出各種波長的光(以紫外至紅外)。

(B) 激勵濾光源：透過能使標本產生螢光的特定波長的光，同時阻擋對激發螢光無用的光。

(C) 熒游標本：一般用熒光色素染色。

(D) 阻擋濾光鏡：阻擋掉沒有被標本吸收的激發光有選擇地透射熒光，在熒光中也有部分波長被選擇透過。

2、二次成像是怎麼回事？

成像的本質是光的反射,只要反射一次,其反射的光線進入人的眼睛就可以看到它的回像.
可見答：
來自物體的光經平面鏡第一次反射後,其反射若進入人的眼睛,就可以看到它的像了；若反射的光線再一次被另一個平面反射,則第二次反射的反射光線進入人眼睛同樣也看到了像,這個像就是第一個像所成的虛像.以此類推,第三次反射……都可以成像的.

3、攝影方面，什麼是二次成像技術？

您說的應該是二次曝光，或者多次曝光吧。

多次曝光技術是在一張頁片或一幅膠片上拍攝幾個影像。同一個物體可以拍攝幾次，或者將幾個不同的物體拍攝在一起。多次印放是用一張底片在同一張相紙上反復曝光多次。與這相似的一種技術叫合成印放，是在一張相紙上用幾張不同的底片曝光多次。 是特技攝影方法之一，通過兩次以上曝光，完成一個電影畫面的攝影方法。可以把不同時空的拍攝對象有機地合成在一個畫面里。基本原理是用遮片相互遮擋，使多次曝光的影象不重疊。也可以不用遮片，使多次曝光的影象重疊。

操作方法
用照相機對一個物體進行多次曝光的一種方法是將快門敞開，同時，用頻閃燈進行脈沖閃光，或用幾個閃光燈連續閃光。在鏡頭前轉動一個輔助快門--開有一個小孔的不透光圓盤，也能得到多次曝光。在進行這樣的多次曝光時，為了使膠片的影像略為分開，必須移動物體、照相機、變焦鏡頭，或任何兩種同時移動。
第二種更常用的多次曝光方法是，每一次曝光打開一次快門，對35毫米和使用卷片的照相機來說，這就要求給快門上弦時，膠片不卷動。有些照相機可以在推動卷片桿給快門上弦的同時，撥動退片桿以防止膠片卷動。如果各物體中有黑暗部分，那就可以在構圖時使各影像的主要明亮部分不要互相重疊。對於從背後?焦點平面?取景的照相機，可以把每個物體的位置劃在取景玻璃或覆蓋的白紙上，以取得精確的構圖。如果各影像的中間調和明亮部分互相重疊，它們的曝光效果將加在一起而記錄在膠片上。為了避免曝光過度，每個物體只能得到總曝光量的一部分。每個物體應得的曝光量由總曝光次數除正常曝光量來確定。對於自動曝光控制的照相機，可用總曝光次數乘膠片速度，並用這個速度調整攝影機的測光表，這樣，也能得到同樣的正確曝光。
在多次印放中，重疊曝光效果也是一個問題，在重疊部分它將顯得過黑?在膠片上，曝光過度部分印成相片後，將顯得過亮，在幻燈片中也是過亮?。印放曝光平穩問題，通過紙條和樣片的測試，比較易於解決。一個更重要的問題，是對影像的重疊與分離要加以控制使其達到適當的程度。這就需要利用某種逐漸重合的方法，使放大紙或鏡頭能在各次曝光之間適當地移動。

單純多次曝光
在拍攝照片的過程中，相機和被攝物體都保持不動，對被攝物體不同時間或不同光線照射情況下進行多次曝光拍攝，這樣就可以突出被攝物體的層次感。這是一種最基本的多次曝光技法，比較適合拍攝夜景。
變換焦距多次曝光
對於花卉或者靜物的拍攝，可以採用變換焦距的方法進行兩次拍攝，一次使用實焦拍攝，一次使用虛焦拍攝。在實焦拍攝過程中可以曝光多些，而虛焦拍攝時則曝光少些。
遮擋法多次曝光
所謂的遮擋法，就是前文所說的先遮擋鏡頭的一半拍攝一次被攝物體，然後再遮擋鏡頭的另一半拍攝一次不同位置的被攝物體，這樣就可以將被攝物體同時曝光到一張底片上。不過使用數碼相機拍攝的時候不用遮擋鏡頭，只要拍攝兩張照片就可以了，需要注意的是，需要保持鏡頭的位置不動。
疊加法多次曝光
還有一種方法就是在畫面的某些區域預先留出位置，在預留區域內多次曝光，也可以形成一種極富表現力的效果。拍攝的過程中相機的位置可以固定，也可以移動。這里我們以相機位置固定的方法拍攝一個人物在多個位置的多張照片，然後把它們合成到一起。

4、顯微鏡成像有何特點

顯微鏡的成像特點：

1. 顯微鏡的放大倍數：是指標本放大的長度或寬度，而不是指面積或體積。顯微鏡的放大倍數等於所用物鏡與目鏡放大倍數的乘積。目鏡的放大倍數越小鏡頭越長，物鏡的放大倍數越小鏡頭越短。

2. 顯微鏡視野觀察的特點：低倍鏡下細胞數目多，體積小，視野亮；高倍鏡下細胞數目少，體積大，視野暗。

3. 顯微鏡下實物與物象的關系：顯微鏡下所成的像是倒立的虛像，即上下、左右均是顛倒的。如細胞在顯微鏡下的像偏「右上方」，實際在玻片上是偏「左下方」，要將其移至視野中央，應將玻片向「右上方」移動。

原理：

光學顯微鏡主要由目鏡、物鏡、載物台和反光鏡組成。目鏡和物鏡都是凸透鏡，焦距不同。物鏡的凸透鏡焦距小於目鏡的凸透鏡的焦距。物鏡相當於投影儀的鏡頭，物體通過物鏡成倒立、放大的實像。

目鏡相當於普通的放大鏡，該實像又通過目鏡成正立、放大的虛像。經顯微鏡到人眼的物體都成倒立放大的虛像。反光鏡用來反射，照亮被觀察的物體。反光鏡一般有兩個反射面：一個是平面鏡，在光線較強時使用；一個是凹面鏡，在光線較弱時使用，可會聚光線。

電子顯微鏡是根據電子光學原理，用電子束和電子透鏡代替光束和光學透鏡，使物質的細微結構在非常高的放大倍數下成像的儀器。

電子顯微鏡的分辨能力以它所能分辨的相鄰兩點的最小間距來表示。20世紀70年代，透射式電子顯微鏡的解析度約為0.3納米(人眼的分辨本領約為0.1毫米)。

電子顯微鏡最大放大倍率超過300萬倍，而光學顯微鏡的最大放大倍率約為2000倍，所以通過電子顯微鏡就能直接觀察到某些重金屬的原子和晶體中排列整齊的原子點陣。

(4)sem二次成像特點擴展資料：

顯微鏡之所以能將被檢物體進行放大，是通過透鏡來實現的。單透鏡成象具有象差，嚴重影響成象質量。因此顯微鏡的主要光學部件都由透鏡組合而成。

從透鏡的性能可知，只有凸透鏡才能起放大作用，而凹透鏡不行。顯微鏡的物鏡與目鏡雖都由透鏡組合而成，但相當於一個凸透鏡。為便於了解顯微鏡的放大原理，簡要說明一下凸透鏡的5種成象規律：

（1） 當物體位於透鏡物方二倍焦距以外時，則在象方二倍焦距以內、焦點以外形成縮小的倒立實象；

（2） 當物體位於透鏡物方二倍焦距上時，則在象方二倍焦距上形成同樣大小的倒立實象；

（3） 當物體位於透鏡物方二倍焦距以內，焦點以外時，則在象方二倍焦距以外形成放大的倒立實象； 

（4） 當物體位於透鏡物方焦點上時，則象方不能成象；

熒光顯微鏡原理：

(A) 光源：光源輻射出各種波長的光(以紫外至紅外)。

(B) 激勵濾光源：透過能使標本產生螢光的特定波長的光，同時阻擋對激發螢光無用的光。

(C) 熒游標本：一般用熒光色素染色。

(D) 阻擋濾光鏡：阻擋掉沒有被標本吸收的激發光有選擇地透射熒光，在熒光中也有部分波長被選擇透過。

5、成像特點

實現倒立，像與物相似

6、TEM和SEM的工作原理差別?

1、掃描電子顯微鏡 SEM(scanning electron microscope)

（1）、掃描電子顯微鏡工作原理：
是1965年發明的較現代的細胞生物學研究工具，主要是利用二次電子信號成像來觀察樣品的表面形態，即用極狹窄的電子束去掃描樣品，通過電子束與樣品的相互作用產生各種效應，其中主要是樣品的二次電子發射。二次電子能夠產生樣品表面放大的形貌像，這個像是在樣品被掃描時按時序建立起來的，即使用逐點成像的方法獲得放大像。
（2）掃描電子顯微鏡的製造是依據電子與物質的相互作用。當一束高能的人射電子轟擊物質表面時，被激發的區域將產生二次電子、俄歇電子、特徵x射線和連續譜X射線、背散射電子、透射電子，以及在可見、紫外、紅外光區域產生的電磁輻射。同時，也可產生電子-空穴對、晶格振動 (聲子)、電子振盪 (等離子體)。原則上講，利用電子和物質的相互作用，可以獲取被測樣品本身的各種物理、化學性質的信息，如形貌、組成、晶體結構、電子結構和內部電場或磁場等等。掃描電子顯微鏡正是根據上述不同信息產生的機理，採用不同的信息檢測器，使選擇檢測得以實現。如對二次電子、背散射電子的採集，可得到有關物質微觀形貌的信息;對x射線的採集，可得到物質化學成分的信息。正因如此，根據不同需求，可製造出功能配置不同的掃描電子顯微鏡。

2、透射電鏡TEM (transmission electron microscope)

（1）透射電鏡工作原理：
是以電子束透過樣品經過聚焦與放大後所產生的物像， 投射到熒光屏上或照相底片上進行觀察。
（2）透射電鏡的解析度為0.1～0.2nm，放大倍數為幾萬～幾十萬倍。由於電子易散射或被物體吸收，故穿透力低，必須制備更薄的超薄切片（通常為50～100nm）。其制備過程與石蠟切片相似，但要求極嚴格。要在機體死亡後的數分鍾釣取材，組織塊要小(1立方毫米以內），常用戊二醛和餓酸進行雙重固定樹脂包埋,用特製的超薄切片機（ultramicrotome）切成超薄切片，再經醋酸鈾和檸檬酸鉛等進行電子染色。電子束投射到樣品時，可隨組織構成成分的密度不同而發生相應的電子發射，如電子束投射到質量大的結構時，電子被散射的多，因此投射到熒光屏上的電子少而呈暗像，電子照片上則呈黑色。稱電子密度高（electron dense）。反之，則稱為電子密度低（electron lucent）。

7、二次成像法

設第一次成像時,物距u小於像距v.第二次成像物距等於第一次成像像距版,像距等於第一次物距.則u=(D-d)/2,v=d+u=（D+d）/2.凸透鏡成像權公式：
1/f=1/u+1/v 得 1/f=2/(D+d) +2/(D-d) 所以 f=1/[2/(D+d) +2/(D-d)] .

8、簡要說明sem的二次電子像的成像原理,二次電子像主要反映試樣的什麼特徵

?

9、照相機成像特點

(1)倒立 縮小 實像
(2)倒立 放大 實像
(3)正立 放大 虛像
(4)凸透鏡所成的像與物距有什麼關系?
(5)照相機U大於2f 幻燈機U大於f小於2f 放大鏡U小於f

10、SEM如何利用二次電子成像

從書上查了一些內容，書的年代比較久遠，可能買不到...有興趣的話，嘗試著去圖書館借一下吧。
SEM工作時，電子槍發射的入射電子束打在試樣表面上，向內部穿透一定的深度，由於彈性和非彈性散射形成一個呈梨狀的電子作用體積。電子與試樣作用產生的物理信息，均由體積內產生。
二次電子是入射電子在試樣內部穿透和散射過程中，將原子的電子轟擊出原子系統而射出試樣表面的電子，其中大部分屬於價子激發，所以能量很小，一般小於50eV。因此二次電子探測體積較小。二次電子發射區的直徑僅比束斑直徑稍大一些，因而可獲得較高的解析度。
二次電子像的襯度取決於試樣上某一點發射出來的二次電子數量。電子發射區越接近表面，發射出的二次電子就越多，這與入射電子束與試樣表面法線的夾角有關。試樣的棱邊、尖峰等處產生的二次電子較多，相應的二次電子像較亮；而平台、凹坑處射出的二次電子較少，相應的二次電子像較暗。根據二次電子像的明暗襯度，即可知道試樣表面凹凸不平的狀況，二次電子像是試樣表面的形貌放大像。
SEM內在試樣的斜上方放置有探測器來接受這些電子。接受二次電子的裝置簡稱為檢測器，它是由聚焦極、加速極、閃爍體、光導管和光電倍增管組成。在閃爍體前面裝一筒裝電極，稱為聚焦極，又稱收集極。在其前端加一柵網，在聚焦極上加250-300V的正電壓。二次電子被此電壓吸引，然後又被帶有10kV正電壓的加速極加速，穿過網眼打在加速極的閃爍體上，產生光信號，經光導管輸送到光電倍增管，光信號轉變為電子信號。最後輸送到顯示系統，顯示出二次電子像。